實驗室無掩膜曝光機CG-MLC6系列直寫光刻機是一款精巧型光刻產(chǎn)品。該設(shè)備采用數(shù)字光刻技術(shù)，無需掩模 版，能夠直接將版圖信息轉(zhuǎn)移到涂有光刻膠的襯底上。CG-ML...

產(chǎn)品概述：應用于3D封裝、LED、微機電系統(tǒng)、化合物半導體、功率器件等領(lǐng)域主要配置：自動對準、自動曝光、LED光源、機器視覺對準系統(tǒng)、高精度硅片承載臺、自動楔形...